Le 13 août dernier (c'est-à-dire hier et en tenant compte du décalage horaire presque aujourd'hui) Intel Architecture Day 2020, comme les années précédentes, la direction de l'entreprise a annoncé ses principales réalisations et priorités pour un avenir proche. Nous aimerions partager dans la poursuite la plus intéressante que nous ayons entendu lors de l'événement. Dans cet article, les nouvelles les plus importantes sur la technologie de processeur SuperFin 10nm.
Après des années d'amélioration des transistors FinFET, Intel procède à un certain nombre de changements intra-nœuds dont l'impact sur les performances est comparable à une technologie de processus plus fine. La technologie, appelée 10 nm SuperFin, combine les FinFET de dernière génération avec des condensateurs Super MIM (métal isolant métallique).
Les avantages du SuperFin incluent une source / une source épitaxiale améliorée, une technologie d'obturation améliorée et un pas d'obturation supplémentaire pour offrir de meilleures performances en:
- améliorer la croissance épitaxiale des structures cristallines au niveau du drain et de la source, augmenter les tensions et diminuer la résistance pour que plus de courant passe à travers le canal;
- des améliorations de la porte pour fournir plus de mobilité de canal, ce qui permet au porteur de charge de se déplacer plus rapidement;
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En termes de densité de cellules et de performances, la technologie SuperFin 10 nm est à peu près équivalente aux technologies 7 nm actuelles. Au cours de l'année prochaine, il sera encore amélioré - le résultat s'appellera Enhanced SuperFin.
Le prochain processeur mobile d'Intel (nom de code Tiger Lake), qui commencera à être expédié aux fabricants d'ici les vacances du Nouvel An, est basé sur la technologie SuperFin 10 nm. Il a été décidé de remplacer complètement le nom de la technologie de processus 10nm ++ par 10nm SuperFin dans tous les produits; d'autres avantages ne seront pas utilisés.
L'actualité avec Intel Architecture Day 2020 ne s'arrête pas là. À suivre.